光刻機是個什么玩意？

浪起激光2020-06-16109003

我們都知道華為的芯片大多由臺積電代工，但是臺積電的芯片生產(chǎn)機器——光刻機——產(chǎn)權(quán)和美國有著莫大的關(guān)系，即是說臺積電很有可能迫于美國的壓力斷供華為芯片，而華為來自日本的芯片也極可能與美國有所關(guān)聯(lián)。

有人就問了，光刻機是個什么玩意？為什么它這么重要我們不能自己造？

《中科院之聲》一篇文章曾如此介紹光刻機：后工業(yè)時代包括現(xiàn)在的工業(yè)3.0、工業(yè)4.0，都以芯片為基礎(chǔ)，光刻機作為制造芯片的工具，就相當于工業(yè)時代的機床，前工業(yè)時代的人手。

據(jù)了解，自集成電路誕生之后，單個芯片上集成的元件數(shù)量不斷增多，隨著技術(shù)的進步，成千上萬的元器件和導(dǎo)線經(jīng)過一系列工藝被“雕刻”在硅片上，完成這些“雕刻”步驟的工具就是半導(dǎo)體設(shè)備，其中最重要的就是光刻機。

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備，在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量以及形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖層比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。簡單地說就是在極小的晶圓上畫電路，刻畫的電路越多，計算能力就越強，現(xiàn)代芯片性能的不斷提升，根源就在于芯片光刻技術(shù)的不斷進步。現(xiàn)在最先進的EUV光刻機的“雕刻精度”已達7nm，精度相當于一根頭發(fā)的萬分之一。要達到這樣的雕刻精度，在雕刻的過程中，晶圓需要被快速移動，每次移動10厘米，但誤差必須被控制在納米級別。為了達到這種精度效果，目前世界上最先進的光刻機上有超過10萬個零件，要知道，汽車上的零部件也不過5000個。光刻機被譽為“世界半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，是當今人類現(xiàn)代工業(yè)文明和智慧的結(jié)晶”絲毫不為過。

荷蘭的ASML是當今世界光刻機市場上的絕對霸主，市占率超過70％。Canon和Nikon的市場份額還不斷被擠壓，尤其是在主流的邏輯芯片加工領(lǐng)域，Canon和Nikon完全無力和ASML競爭，7nm以下制程的光刻機只有ASML能制造。

真正奠定ASML霸主地位的是13.5nm波長EUV（極紫外光）光刻機的研發(fā)，由于其技術(shù)難度高，可謂是歐洲和美國的最先進技術(shù)的集大成者，2019年，全球數(shù)家巨頭合資歷時20年研發(fā)的EUV光刻機終于應(yīng)用于產(chǎn)線，它的誕生將大幅縮減 7nm和5nm制程的工藝步驟。每臺售價超過1億美元。

光刻機制造難度之大，研發(fā)耗時、耗資之巨，可想而知。最令人望而興嘆的是，在制造光刻機這件事上，不存在彎道超車的可能。

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